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氣體新聞資訊
高純氣體的配管技術日益受到關注和重視的原因
信息來源：news.mrdj88.cn | 發(fā)布時間：2021年09月25日
高純氣配管技術是高純氣體供氣系統(tǒng)的重要組成部分，是能否將合符要求的高純氣體送至用氣點仍保持質(zhì)量合格的關鍵技術；所謂高純氣配管技術包括系統(tǒng)的正確設計、管件及附件的選擇、施工安裝和試驗測試等內(nèi)容。近年來以大規(guī)模集成電路為代表的微電子產(chǎn)品生產(chǎn)對高純氣體的純度和雜質(zhì)含量的日益嚴格的要求，使高純氣體的配管技術日益受到關注和重視。以下是襄陽氣體批發(fā),液態(tài)氣體廠家針對高純氣體輸送從選材到施工以及驗收、日常管理的概述。常見氣體的種類
電子行業(yè)中常見氣體的分類：
普通氣體，也稱大宗氣體 （Bulk gas ）：氫氣（H2）、氮氣（N2）、氧氣（O2）、氬氣（A2）等；
特種氣體（Specialty gas ）主要有：SiH4、PH3、B2H6、A8H3、CL、HCL、CF4、NH3、POCL3、SIH2CL2、SIHCL3、NH3、BCL3、SIF4、CLF3、CO、C2F6、N2O、F2、HF、HBR、SF6……等等；
特殊氣體的種類一般可分為腐蝕性、毒性、可燃性、助燃性、惰性等，一般常用的半導體氣體分類如下：
1、腐蝕性 / 毒性：HCl 、BF3、 WF6、HBr、SiH2Cl2、NH3、 PH3、Cl2、 BCl3 …等；
2、可燃性：H2、 CH4、 SiH4、PH3、AsH3、SiH2Cl2、B2H6、CH2F2、CH3F、CO…
3、助燃性：O2、Cl2、N2O、NF3…等；
4、惰性：N2、CF4、C2F6、C4F8、SF6、CO2、Ne、Kr、He…等。
半導體氣體很多是對人體有害的。特別是其中有些氣體如SiH4的自燃性，只要一泄漏就會與空氣中的氧氣起劇烈反應，開始燃燒；還有AsH3的劇毒性，任何些微的泄漏都可能造成人員生命的危害，也就是因為這些顯而易見的危險，所以對于系統(tǒng)設計安全性的要求就特別高。
氣體的應用范圍
氣體產(chǎn)品作為現(xiàn)代工業(yè)重要的基礎原料，應用范圍廣泛，在冶金、鋼鐵、石油、化工、機械、電子、玻璃、陶瓷、建材、建筑、食品加工、醫(yī)藥醫(yī)療等部門，均使用大量的常用氣體或特種氣體。氣體應用，特別對這些領域的高新技術有重要的影響，是其不可缺少的原料氣或工藝氣。也只有各種新興工業(yè)部門和現(xiàn)代科學技術的需要和推動，氣體工業(yè)產(chǎn)品才能在品種、質(zhì)量和數(shù)量等方面得到飛躍發(fā)展。
氣體在微電子、半導體行業(yè)中應用
氣體的使用在半導體制程中一直扮演著重要的角色，特別是半導體制程目前已被廣泛的應用于各項產(chǎn)業(yè)，凡舉傳統(tǒng)的ULSI、TFT-LCD到現(xiàn)在的微機電(MEMS)產(chǎn)業(yè)，皆以所謂的半導體制程為產(chǎn)品的制造流程，其中的制程包括如干蝕刻、氧化、離子布植、薄膜沉積等皆使用到相當多的氣體，而氣體的純度則對組件性能、產(chǎn)品良率有著決定性的影響，氣體供應的安全性則關乎人員的健康與工廠運作的安全。
在不銹鋼熔煉制材過程中，每噸可吸收大約200g的氣體。不銹鋼材加工完畢，不僅其表面粘有各種污染物，而且在其金屬晶格內(nèi)也吸留有一定量的氣體。當管路中有氣流通過時，金屬所吸留的這部分氣體會重新進入氣流中，污染純凈氣體。當管內(nèi)氣流為不連續(xù)流動時，管材對所通過的氣體形成壓力下吸附，氣流停止通過時，管材所吸附的氣體又形成降壓解析，而解析的氣體同樣作為雜質(zhì)進入管內(nèi)純凈氣體中。同時，吸附、解析周而復始，使得管材內(nèi)表面金屬也會產(chǎn)生一定的粉末，這種金屬粉塵粒子同樣污染管內(nèi)純凈的氣體。管材的這一特性至關重要，為了確保輸送的氣體的純凈度，不僅要求管材內(nèi)表面有一個很高的光滑度，而且，應當具有很高的耐磨特性。
腐蝕性能較強的氣體時，必須選用耐腐蝕的不銹鋼管材作配管，否則，管材將會由于腐蝕而在內(nèi)表面產(chǎn)生腐蝕斑，嚴重時會出現(xiàn)大片金屬剝離甚至穿孔，從而污染輸配的純凈氣體。大流量的高純、高潔凈度氣體輸配管道的連接，原則上全部采用焊接，要求采用的管材，在施焊時組織不發(fā)生變化。含碳過高的材料在焊接時，受焊接部位的透氣，使得管內(nèi)外氣體的相互滲透，破壞輸送氣體的純度、干燥度和潔凈度，導致我們的各項努力全部失去意義。綜上所述，對于高純氣體及特種氣體輸送管道，必需采用一種特種處理的高純不銹鋼管，至使高純管道系統(tǒng)（包含管道、管件、閥門、VMB、VMP）在高純氣體配送中占有至關重要的使命。
輸配管道潔凈技術的一般概念
高純、潔凈氣體體輸送配管道，是指對輸送氣體的“三度”有一定的要求或控制。
1、氣體純度：氣體中雜質(zhì)氣氛的含量，通常用氣體純度的百分數(shù)來表示，如99.9999%,也用雜質(zhì)氣氛含量的體積比ppm 、ppb、 ppt表示。
2、干燥度：氣體中微量水分的含量，或稱之為濕量，通常以露點表示，如常壓露點-70℃。
3、潔凈度：氣體中含有污染物粒子的數(shù)量，粒徑為 m的粒子，多少粒/M3 來表示，對于壓縮空氣，通常也用不可避免的固體殘留物的多少mg/m3來表示，其中涵蓋了含油量。
污染物大小分類：污染物粒子，主要指管道沖刷、磨損、腐蝕產(chǎn)生的金屬粒子、大氣煙塵粒子，以及微生物、噬菌體以及含濕氣體凝聚的液滴等，按其粒徑的大小分為：
a、大粒子—粒徑在5μm以上；
b、粒子—料徑在0.1μm-5μm之間；
c、超微粒子—粒徑小于0.1μm。
為增強應用本技術時，能夠?qū)αＷ哟笮『挺蘭單位的感性認識，現(xiàn)提供一組具體的粒子狀況，供對照參考
氣體輸配管道選材的原則
所有高純度、高潔凈的氣體均需通過管路輸送到設備用點（POU），為了達到工藝對氣體的質(zhì)量要求，在氣體出口指標一定的情況下，則更需重視配管系統(tǒng)的材料選用和施工質(zhì)量。除取決于制氣或凈化設備的精度外，在很大程度上受到管路系統(tǒng)諸多因素的影響，因此，管材的選取應恪守相關行業(yè)原則，并在圖紙中注明管道材質(zhì)。
管路的材質(zhì)則依使用的需求進行選擇，若為制程用的反應氣體則選擇高等級的316L EP管，經(jīng)電解拋光處理，耐腐蝕，表面粗糙度低，Rmax約為0.3μm以下，其值遠低于經(jīng)過燒結(jié)處理之316L BA管的0.8μm，因平整度越高越不容易形成微渦流，而將污染粒子帶出。316L BA管則常使用于和芯片接觸但不參與制程反應的氣體，如GN2、CDA。管內(nèi)表面粗糙度是衡量管材質(zhì)量的標準。粗糙度越低，其顆粒攜帶可能性大大降低。另一種未經(jīng)特殊處理的AP管，則用于不做為供氣管路的雙套外管。
目前在國內(nèi)潔凈管道可參照標準比較少，通常我們除了參照《潔凈廠房設計規(guī)范》《氫氣站設計規(guī)范》《氫氧站設計規(guī)范》《壓縮空氣設計規(guī)范》等有關技術行業(yè)技術規(guī)范外，在業(yè)內(nèi)我們慣用的選材與配管一般參照國際通用的行業(yè)標準。
在半導體體行業(yè)線寬越做越小，其對氣體純度、顆粒度、雜質(zhì)含量、露點的要求也越來越高。表1是各線寬下對超純氮氣的要求。
1、高純氮氣（PN2）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。
2、氮氣（N2）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管或光亮退火（BA）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或球閥。
3、高純氫氣（PH2）氫氣（H2）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。
4、氬氣（Ar）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。
5、氦氣（He）：系統(tǒng)管道采用內(nèi)壁電解拋光（EP）低碳（316L不銹鋼管）閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。
6、特氣系統(tǒng)：必要的還需做雙套管：外管酸洗鈍化（AP）處理，內(nèi)管電解拋光（EP），閥門采用相同材質(zhì)的波紋管閥或隔膜閥。
7、壓縮空氣（CDA）：系統(tǒng)管道采用光亮退火（BA）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質(zhì)的球閥（要求不高的公司亦可采用銅管，視工藝要求定）。
對于特殊氣體來講，氣體品種多，有毒有害氣體多，原來是一機臺配一氣柜，高昂的裝備組合和維修費用大大增加了投資成本，且有的還布置在工藝間內(nèi)，存在著泄漏的安全隱患?，F(xiàn)在廣泛采用集中供氣系統(tǒng)，氣柜集中，自控系統(tǒng)不斷完善，其報警、噴淋、切換、吹掃多較為成熟，特氣間也與工藝間隔離，并對房間有防爆要求，工作的安全性大大提高 。
針對腐蝕性、毒性、燃燒性的氣體，通常設計將鋼瓶置于氣瓶柜內(nèi)，再透過管路將氣體供應至現(xiàn)場附近的閥箱，而后再進入制程機臺的使用點，于進入機臺腔體之前，會有獨立的氣體控制盤與制程控制模塊聯(lián)機，以質(zhì)流控制器進行流量之控制與進氣的混合比例控制，通常此氣體控制盤不屬于廠務系統(tǒng)的設計范疇，而是歸屬制程機臺設備的一部份。一般的惰性氣體則是以開放式的氣瓶架與閥盤進行供應。
